pvd镀膜可以在真空环境下进行，这项技术称为pvd真空镀膜。

金属在真空环境下与各种气体产生综合作用形成等离子体，经过加速后，等离子体涌向被镀工件表面，形成牢固的膜层。

这层膜细密均匀，结合力强，硬度高，防腐耐磨，具有良好的导电性和自润滑性能，同时色泽丰富多样。

由于pvd真空镀膜是在真空环境下进行，而真空中的大物分物质已被排出，所以镀膜的过程受到外界干扰的影响就很小，颜色就不会杂乱，也没有膜层脱落的后顾之忧。

pvd真空镀膜能直接镀在不锈钢，钛、钨钢等材质上，但是对铁、锌合金、铜等压铸件真空镀膜前应先进行化学电镀铬，然后才适合镀pvd。

pvd镀膜技术是一种真正能够获得微米级镀层，而且的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等）、氮化物膜（钛金、锆金、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。

pvd镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工。